专利名称：一种半透膜膜元件清洗装置专利类型：发明专利发明人：王丽华,杨瑜芳申请号：CN201410663490.3申请日：20141119公开号：CN105597548A公开日：20160525
摘要：本发明涉及一种半透膜膜元件的清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。对于严重污染的RO膜元件或NF膜元件EL，使用该装置，在逆向清洗时，控制逆清洗条件，降低膜元件在清洗过程中的损坏率；而且清洗液从膜元件产水管进入，逆向清洗可以将严重污染结垢物质疏松化获得更好的清洗效果；清洗装置中膜元件直接连接清洗管路，无膜壳，结构简单、便于拆装。
申请人：东丽先端材料研究开发(中国)有限公司
地址：200241 上海市闵行区紫竹高新技术产业开发区紫日路500号
国籍：CN
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