专利名称：多晶硅还原炉用新型石墨组件专利类型：实用新型专利发明人：曾品华,陈卫卫申请号：CN201720606943.8申请日：20170527公开号：CN207046871U公开日：20180227
摘要：一种多晶硅还原炉用新型石墨组件，包括卡帽、卡座、卡瓣，所述卡瓣的高度不高于卡帽的顶部的最高高度，本实用新型中，降低了卡瓣的高度，在卡瓣中间固定的硅芯完全暴露在还原炉的高温气氛中，而卡瓣周围的高温气氛较少，温度较低，多晶硅只会围绕硅芯生长，而不容易在卡瓣上沉积生长，这样在多晶硅棒生长的过程中，硅芯底部的卡瓣上不会生长多晶硅，生长完成的多晶硅棒内部不包含石墨卡瓣，从而也解决了碳头料浪费的问题，使用本实用新型的石墨组件，硅芯底部的卡瓣上不会生长多晶硅，比较于现有技术，至少可以减少20mm的碳头料的损失。
申请人：石嘴山市新宇兰山电碳有限公司
地址：753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口区工业园区、110国道东、欣盛路北
国籍：CN
代理机构：宁夏合天律师事务所
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