专利名称：用于在真空腔室中处理载体的设备、真空沉积系统
和在真空腔室中处理载体的方法
专利类型：发明专利
发明人：马蒂亚斯·赫曼尼斯,詹斯·格伦斯申请号：CN201880004210.4申请日：20180403公开号：CN110557952A公开日：20191210
摘要：描述了一种用于在真空腔室中处理载体的设备(100)。所述设备包括真空腔室(101)，所述真空腔室具有带有开口(106)的壁(102)。第一驱动单元(142)布置在所述真空腔室(101)外部，并且被配置为使延伸穿过所述开口(106)到所述真空腔室(101)中的第一从动部分(143)移动。用于保持或移动载体(30)的第一部件(150)附接到所述真空腔室(101)中的所述第一从动部分(143)。所述第一从动部分(143)提供用于供应所述第一部件(150)的第一供应通道(147)。另外，描述了一种真空沉积系统和一种处理载体的方法。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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