专利名称：具有含氮杂环化合物的残基的高分子化合物专利类型：发明专利发明人：安立诚,福岛大介申请号：CN200980114156.X申请日：20090424公开号：CN102015820A公开日：20110413
摘要：本发明提供一种高分子化合物，其具有下述式(1)表示的化合物的残基及下述式(2)表示的化合物的残基，(式中，Ar表示芳基或1价杂环基。)(式中，Z～Z中，1个表示-N＝、2个表示-C(R’)＝。Z及Z表示-C(R’)＝。Z～Z中，1个表示-N＝、2个表示-C(R’)＝。Z及Z表示-C(R’)＝。R’表示氢原子、烷基等。)。
申请人：住友化学株式会社,萨美甚株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：朱丹
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