一种磁控溅射装置[发明专利]

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专利名称：一种磁控溅射装置专利类型：发明专利发明人：刘海龙,孙玉杰申请号：CN201610069477.4申请日：20160201公开号：CN1083633A公开日：20160413

摘要：本发明涉及真空镀膜技术领域，公开了一种磁控溅射装置，该磁控溅射装置包括磁悬浮轨道和可沿磁悬浮轨道的延伸方向悬浮移动地安装于磁悬浮轨道的载板，载板设有用于与磁悬浮轨道之间产生悬浮磁力的磁轨，磁轨通过多个垫块安装于载板；其中，每一个垫块包括位于磁轨与载板之间的第一绝缘板块和第二绝缘板块，第二绝缘板块位于第一绝缘板块与载板之间；且，第一绝缘板块与磁轨之间通过第一固定件固定连接，第二绝缘板块与载板之间通过第二固定件固定连接，第二固定件与第一固定件不接触；第一绝缘板块与第二绝缘板块之间通过第三固定件固定连接，第三固定件与磁轨和载板都不接触。上述磁控溅射装置在工作过程中不易产生异常放电的现象。

申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司

地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

国籍：CN

代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司

代理人：黄志华

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