专利名称：平滑规则式光学临近修正光掩膜图形的方法专利类型：发明专利发明人：魏芳,张斌
申请号：CN200710093961.1申请日：20070719公开号：CN101349861A公开日：20090121
摘要：本发明公开了一种平滑规则式光学临近修正光掩膜图形的方法，该方法通过在进行常规规则式光学临近修正光掩膜图形后，增加一个步骤：在密集图形区和孤立图形区连接处台阶所在的修正片断为基准片断，将与其相邻的至少两个连续的修正片断的修正量调整为介于其前一个修正片断的修正量和其后一个修正片断的修正量之间的值，以减少相邻两个修正片断间修正量的差异。通过本发明的方法，可以得到一平滑的曝光图形，并不需要增加很多计算机运行时间，可广泛适用于规则式光学临近修正操作中。
申请人：上海华虹NEC电子有限公司
地址：201206 上海市浦东新区金桥出口加工区川桥路1188号
国籍：CN
代理机构：上海浦一知识产权代理有限公司
代理人：丁纪铁
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